我們生產的鈦鋁合金濺射靶材具有高純度，最重要的優點是您的薄膜具有出色的導電性，并且在PVD過程中可以最大限度地減少顆粒形成。下表是2N8高純度鈦鋁 （30/70 原子％）濺射靶的典型分析證明 。
分析方法：1。使用ICP-OES分析金屬元素。2.使用LECO分析氣體元素。
值得注意的是，我廠還專業生產各種鐵基合金濺射靶材，包括 Ti + Cr， Ti + Nb和 Ti + Si + Cu 合金濺射靶材，定制合金成分，尺寸靈活，公差更小，均勻微觀結構。
廠房地址：湖南省瀏陽市高新技術開發區永泰路創新創業園A4-1棟
郵箱地址：erin@xk-sputteringtarget.com
全國咨詢熱線：
0731-86393472
Copyright ? 2014 www.xk-sputteringtarget.com 長沙鑫康新材料有限公司版權所有 備案號： 湘ICP備17005295號-2
