鍺濺射靶材由高純鍺金屬組成。是一種硬而脆的材料，具有半金屬，灰白色的外觀。它的密度為5.35 g / cc，熔點為937°C，在1,167°C下的蒸氣壓為10 -4 Torr。在光學存儲介質和光學涂層的生產中，它經常在真空下蒸發以形成層。這種材料的其他用途是用作合金化劑和催化劑。
備料 - 區域熔煉 - 化學分析 - 鍛造 - 軋制 - 退火 - 金相檢測 - 機加工 - 尺寸檢測 - 清洗 - 終檢 - 包裝
鍺濺射靶材的應用
應用領域覆蓋紅外光學、太陽能電池、光纖通訊、半導體特氣、PET催化劑等產業。
鍺銅、金鍺、鍺銻碲合金靶材等
廠房地址：湖南省瀏陽市高新技術開發區永泰路創新創業園A4-1棟
郵箱地址：erin@xk-sputteringtarget.com
全國咨詢熱線：
0731-86393472
Copyright ? 2014 www.xk-sputteringtarget.com 長沙鑫康新材料有限公司版權所有 備案號： 湘ICP備17005295號-2
