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濺射靶材使用前的準備工作有哪些?

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,就是用電子槍系統把電子發射并聚焦在被鍍材料上,使濺射的原子遵循動量轉換原理,從具有高動能的材料上飛離到基板上,形成薄膜。這種材料稱為濺射靶材。這里我們談談濺射前的一些準備工作。


濺射靶材


濺射準備
保持真空腔至關重要,尤其是保持濺射系統清潔。潤滑油、灰塵和以前的涂層形成的任何殘留物都會聚集水分和其他污染物,直接影響真空度并增加成膜失敗的可能性。靶材短路或起弧、成膜表面粗糙、化學雜質含量過高等原因往往是濺射室、濺射槍、靶材不干凈造成的。

1. 為保持鍍層的成分特性,濺射氣體(氬氣或氧氣)必須清潔干燥?;灏惭b在濺射室后,必須抽出空氣以達到工藝所需的真空度。

2、暗區屏蔽罩、空腔壁、相鄰面也需要保持清潔。清潔真空腔時,建議使用玻璃球拋丸法處理臟件。早期最好用壓縮空氣清除型腔周圍的濺射殘留物,然后用浸漬氧化鋁的砂紙輕輕打磨表面。紙張拋光后,應用酒精、丙酮和去離子水清洗。同時,建議使用工業吸塵器進行輔助清潔。

3.真空密封塑料袋包裝,內置防潮劑。

4. 使用目標時不要用手直接接觸目標。在使用目標之前,請戴上干凈且不起毛的防護手套。不要用手直接接觸目標。


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