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四種常用濺射靶材應用介紹

濺射靶材

濺射靶材種類多,純度要求高,而且應用行業也很廣泛,今天我們來講講四大領域常用的這四種濺射靶,高純鋁靶材、鈦靶材、鉭靶材、鎢鈦靶材。它們涉及的領域包括平板顯示、半導體、存儲和太陽能電池。

鋁靶(庫存純度 99.99% - 99.999%)
高純鋁及其合金是應用很廣泛的導電薄膜材料之一。在其應用領域,超大規模集成電路芯片的制造要求濺射靶金屬的純度非常高,通常高達99.9995%,而平板顯示器和太陽能電池的金屬純度略低。

鈦靶 (庫存純度 99.99% - 99.999%)

鈦是超大規模集成電路芯片中常用的阻隔膜材料之一(對應的導電層材料為鋁)。鈦靶材將在芯片前制造過程中與鈦環一起使用。主要功能是輔助鈦靶材的濺射工藝,主要應用于超大規模集成電路芯片制造領域。

鉭靶(庫存純度 99%,99.5% ,99.9%,99.995%,99.99%,99.995%99.999%)

隨著智能手機、平板電腦等消費電子產品需求爆發式增長,高端芯片需求大幅增加,鉭成為熱門礦產資源。但鉭資源的稀缺性使得高純鉭靶材價格昂貴,主要用于大規模集成電路等領域。

鈦鎢靶材(庫存純度99.95%)

鎢鈦合金具有低電子遷移率、穩定的熱機械性能、良好的耐腐蝕性和良好的化學穩定性。近年來,鎢鈦合金濺射靶材已被用作半導體芯片柵極電路的接觸層材料。此外,鎢和鈦靶材還可以用作半導體器件金屬連接中的阻擋層。用于高溫環境,主要用于vlsI和太陽能電池。

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